APP 位于一號(hào)北、二號(hào)東、三號(hào)宮殿遺址東北,以回廊貫通。殿址呈不規(guī)則長(zhǎng)方形,東西長(zhǎng)108、中(南北)寬約66米,面積7128平方米。遺址距地表1～1.4米,南側(cè)西部深達(dá)2.1～2.4米,內(nèi)含殘瓦、紅燒土塊、木炭和夯土塊等。 （本文共 108 字 ） [閱讀本文] >>
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位于一號(hào)北、二號(hào)東、三號(hào)宮殿遺址東北,以回廊貫通。殿址呈不規(guī)則長(zhǎng)方形,東西長(zhǎng)108、中(南北)寬約66米,面積7128平方米。遺址距地表1～1.4米,南側(cè)西部深達(dá)2.1～2.4米,內(nèi)含殘瓦、紅燒土塊、木炭和夯土塊等。 （本文共 108 字 ） [閱讀本文] >>
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