感光干膜微結構模具制備關鍵技術

摘要： 基于負性感光干膜的微結構模具制備關鍵技術，針對壓膜、紫外曝光和顯影等主要工藝環(huán)節(jié)，給出光源光譜特性、紫外光源功率、曝光時間、顯影時間、顯影液濃度等關鍵試驗參數(shù)的選擇優(yōu)化和試驗現(xiàn)象原因分析，并對極限試驗條件下干膜性狀進行研究，為干膜存儲、裁剪、晾放時間提供技術支持。利用該工藝制備的干膜微結構模具，可封裝不同結構和功能的聚二甲基硅氧烷(PDMS)微流控芯片。試驗結果表明，與傳統(tǒng)光刻... （共7頁）