像差預(yù)補償?shù)拟壦徜嚲w內(nèi)部激光直寫（特邀）

摘要： 集成光電器件正由傳統(tǒng)的二維構(gòu)型向全空間維度發(fā)展，激光直寫憑借其獨特的三維加工優(yōu)勢在全維度光子芯片的發(fā)展中發(fā)揮了重要的作用。鈮酸鋰是近年來受到廣泛關(guān)注的高性能光電材料，但由于界面間的大折射率失配引入像差，極大地影響了在鈮酸鋰晶體內(nèi)部三維激光直寫的精度?；谧赃m應(yīng)光學(xué)原理的像差補償技術(shù)可以對激光光束進行精確的波前控制，為實現(xiàn)聚焦光斑的像差校正提供了可行方案。針對鈮酸鋰內(nèi)部進行三維激... （共7頁）